Das SST Monosilan-basierte Polysilizium Herstellungsverfahren

SST hat ein einzigartiges Herstellungsverfahren für die Herstellug von hoch-reinem Polysilizium und Monosilan entwickelt, welches sich deutlich vom herkömmlichen TCS-Siemens-Verfahren unterscheidet.

Aus metallurgischem Silizium (Si mg) wird im ersten Schritt, der Hydrochlorierung, in einem Fließbettreaktor (mit Siliziumtetrachlorid STC, Si mg and H2 als Basismaterial) TCS hergestellt. Im zweiten Schritt, der Disproportionierung, wird in der sog. katalytischen Disproportionierung  TCS in Monosilan und STC umgewandelt. Im dritten und letzten Prozess, der CVD Deposition (Chemical Vapor Deposition), scheidet sich durch Erhitzung des Monosilangases hochreines Polysilizium auf erhitzten Stäben ab und kann dann geerntet werden.

Der Prozess ist einfacher zu fahren als herkömmliche Herstellungsmethoden. Da der Monosilan-Prozess nur mit Si und H2 arbeitet, und nicht mit Chlor, bietet die Technologie in der krystallinen Wertschöpfungskette enormes Entwicklungspotential.

Aufgund der sehr hohen Reinheit des Siliziums ist es für alle Anwendungen in der solaren und  in der elekronischen Industrie geeignet.

 

          Vorteile der Monosilan-Methode:

          1. Höchste Qualität 

          2. Best-in-Class Cost          

          3. Easy-to-run Process